XR기반 반도체 트러블슈팅 실무과정 체험기!
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반도체 공정 XR실습을 실제로 해본것은 처음이어서 기대를 가지고 참여했습니다. 제가 참여한 오류 발생상황은 etch rate decrease, plasma error였습니다. etch rate decrease의 상황에서는 etch rate가 감소한 원인을 화면에서 찾아내고 실제 오류개선 방법을 설명한뒤 오류값에 기반하여 장비를 고쳐보고 다시 진행해보는 체험을 직접 했습니다. plasma error상황에서는 공급해주는 전력과 Ar가스의 양이 표준레시피와 다른것을 확인하고 전력케이블 및 가스주입부분을 실제 고쳐보고 다시 장비를 사용하여 오류를 고쳐보는 체험을 할 수 있었습니다. XR기반 반도체 공정 체험이라 이전 펩실에서 구경했던 실제 장비와는 다르지 않을까 걱정한것과 달리 오류 상황도 실제 발생할 법한 문제들 중 한가지였고 더 놀라웠던건 공정 장비에 구현된 파라미터 및 수치들이 현업장비와 굉장히 유사하여 좋았습니다. 반도체 공정에 관심이 있다면 관심도 어필에 아주 좋은 경험이 될것 같다고 생각합니다. |
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